(来源:资料图)
据悉,该光刻机重达 200 多吨,有“双层巴士”那么大,旨在生产可用于手机、笔记本电脑、汽车以及人工智能等领域的计算机芯片上所需的微观电路。
ASML 的总部位于靠近比利时边境的荷兰南部小镇维尔德霍芬(Veldhoven),该公司的高管告诉外媒,该公司和其长期合作伙伴——一家名为 IMEC 的非营利性研究机构正建立一个测试实验室。这也意味着,未来全球顶级芯片制造商和供应商,可以试用该光刻机的性能,以决定是否购买。
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EUV,即 ASML 最先进的机器所使用的光波波长,指的是电磁波谱中波长从 121 纳米到 10 纳米的电磁辐射所在的频段。ASML CEO 彼得·温宁克(Peter Wennink)告诉媒体,过往 10 年间该公司已出售大约 140 台 EUV 光刻机,单价约 2 亿美元一台。
而本次研发的是使用“High-NA”的 EUV。对于 ASML 来说,只有实现此次研发目标,才不会让自己丧失竞争力和失去订单。
该项目的“命运”对 ASML 的客户来说也很重要,因为芯片制造商在全球资源短缺的情况下竞相扩大生产。比如英特尔、三星、台积电等,其中台积电正在为苹果、AMD 和英伟达等公司生产芯片。
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据悉,ASML 的机器每台成本高达 1.6 亿美元,但是机器短缺是芯片制造商正面临的瓶颈。因此,芯片制造商们计划在未来几年花费 1000 多亿美元建造额外的制造工厂,以便满足客户需求。
此前,台积电在 2010 年代末首次整合了 ASML 的 EUV 机器,借此一举超越竞争对手。也正因此,台积电的竞品厂商曾表示,不会再在“High-NA”上“犯错”。
在缩小芯片制程上,EUV 光刻机承担着重要作用。“High-NA”技术有望将电路面积降低 66%。在芯片制造中,越小的才越好。因为在同一空间中封装的晶体管越多,芯片就越快、越节能。
当前,芯片电路正接近原子水平,这也让人们开始认为“摩尔定律”是否已经接近尾声。摩尔定律于 20 世纪 60 年代被首次提出,指的是芯片上的晶体管数量大约每两年翻一番。
而采用“High-NA”的机器将比之前的机器大 30% 左右,IMEC 表示,它认为和 ASML 共同建立上述实验室,可为芯片制造商节省长达一年的开发时间。
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ASML 方面称,它有 5 台试验机器的订单,将于 2024 年交付。此外,还有来自 5 个不同客户的“超过 5 个”的订单,故从 2025 年开始,ASML 将加快生产模型的交付。
但在复杂部件的集成上,ASML 仍存在巨大挑战,其中就包括由德国卡尔蔡司在真空中制造的抛光、超光滑曲面镜的光学系统。
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回顾过往,自 2000 年以来,ASML 从日本竞争对手尼康和佳能手中快速夺取了市场份额。自那时至今,ASML 控制着超过 90% 的光刻市场。以至于没有任何竞争对手敢以高开发成本,去构建类似的 EUV 系统。过去十年间,该公司的发展十分顺遂,股价一度飙升 1000%,当前市值为 2145.22 亿美元,同时也获得了光刻系统的全球大部分订单。
虽然 ASML 在业内享有近乎垄断的地位,但是“定价取决于机器生产力”。与此同时,有能力生产领先芯片的公司数量正在减少,ASML 又必须向其出售 EUV 工具,其中也包括内存芯片制造商 SK 海力士和美光(Micron)。
一些研究人员预计,ASML 在未来十年的年销售额将翻倍,并有望超过 1 万亿美元。但是,一个必须面临的现实是,ASML 在“High-NA”技术的供应链上仍面临着一定压力。美国塔夫茨大学弗莱彻学院助理教授克里斯·米勒(Chris Miller)告诉外媒,虽然 ASML 是荷兰企业,但在光刻机的零部件上,仍在严重依赖美国供应商。
此外,由于投资人预计 ASML 将获得更进一步的主导地位和业绩增长,以证明其 2021 年市盈率 35 倍的估值是合理的,所以就算该公司遇到技术阻碍或供应链障碍,它也几乎没有犯错的余地。
产业调查机构 TechInsights 芯片经济学家丹·哈奇森(Dan Hutcheson) 认为,“High-NA” EUV 可以为一些晶片制造商带来显著优势,“有点像谁拥有最好的枪,就能掌握先机”。
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参考:
https://www.techzine.nl/nieuws/infrastructure/488843/asml-staat-op-het-punt-om-de-chipindustrie-voorgoed-te-veranderen/
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